Ìmúdàgba wafer jẹ́ ìlànà pàtàkì nínú iṣẹ́ ìṣẹ̀dá semiconductor, tí ó ní ìṣiṣẹ́ dopant, àtúnṣe lattice, àti ìṣẹ̀dá ultra-shallow junction (USJ). Ìmúdàgba iná ìgbóná àti ìṣiṣẹ́ ooru kíákíá (RTP) ń jìyà láti inú ìnáwó ooru gíga, ìfọ́gba dopant tí kò ní ìdarí tó dára, àti àìtó ìṣọ̀kan tó pọ̀ tó, èyí tí ó mú kí wọ́n má tó fún àwọn nódù ìmọ̀-ẹ̀rọ tó ti ní ìlọsíwájú ní 7 nm, 5 nm, àti ju bẹ́ẹ̀ lọ—ní pàtàkì fún àwọn architectures Gate-All-Around (GAA) àti 3D NAND flash memory. Ìmúdàgba wafer tí a fi lésà ṣe, pẹ̀lú ìtànṣán agbára gíga rẹ̀, ìṣedéédé micron-scale space, àti ìfọ́gba ooru tí ó kéré jùlọ, ti farahàn gẹ́gẹ́ bí ìlànà pàtàkì ìran tí ń bọ̀ fún mímú àwọn ìbéèrè iṣẹ́-ọnà tí ó béèrè fún wọ̀nyí ṣẹ.
Ìlànà Pàtàkì ti Ìgbóná Lésà
Orí ìgbóná lésà Wave Optics ní àwòrán optical tó ní agbára gíga, tó sì dọ́gba pẹ̀lú ooru láti fi ìtànṣán sí ojú wafer. Lésà aláwọ̀ ewé náà ní ìbáramu gbígbóná tó dára pẹ̀lú àwọn ohun èlò tí a fi silicon ṣe (pẹ̀lú SiC), èyí tó ń mú kí ìtọ́jú ooru tó lágbára pọ̀ láì ba wafer náà jẹ́. Èyí ń mú kí a tún ṣe àtúnṣe sí ipele tí ion ti bàjẹ́ àti ìṣiṣẹ́ dopant tó munadoko. Lẹ́yìn náà, agbára ìgbóná gíga ti substrate náà ń jẹ́ kí ìtútù yára kánkán, èyí tó ń di ìrísí lattice náà mú kí ó sì dín ìtànkálẹ̀ dopant kù. Ìlànà yìí ṣe àṣeyọrí láti mú àwọn ìsopọ̀ tó jinlẹ̀ pẹ̀lú agbára ìṣiṣẹ́ gíga àti ìsopọ̀ tó ga (láìròtẹ́lẹ̀) jáde.
Lílo Lésà fún Ìgbóná Alágbára Ṣe Pàtàkì fún Ìmúdàgbàsókè Ìṣiṣẹ́ Wafer
- Ìṣọ̀kan Ìlànà Ìlànà: Ìṣọ̀kan agbára tí ààyè ìlànà ìlànà òkè pẹ̀tẹ́ẹ̀rẹ́ fi ju 95% lọ (àṣàrò), èyí tí ó ń mú kí ìyọ́kúrò tàbí àìsí ìfọ́mọ́ra tó pọ̀ jù wà ní àdúgbò.
- Iduroṣinṣin Agbara: Iyipada agbara ti o njade nigbagbogbo wa ni isalẹ 2%, eyi ti o rii daju pe wafer-si-wafer ti o dara julọ ati ibamu ipele-si-ipele.
- Àwòrán Ìrísí Dídára: Àwọn ẹ̀yà ara opitika ní àwọn ìwọ̀n PV/RMS tí a fi ìwọ̀n nanometer ṣe pẹ̀lú ìyípadà ìpele ìgbì omi tí a ṣàkóso dáadáa, èyí tí ó ń dènà ìbàjẹ́ ibi gbígbóná.
- Ijinle Idojukọ ati Apẹrẹ Itanna: Ijinle idojukọ ti a le ṣe adani pẹlu isọdọkan integrator ṣe atilẹyin fun ayẹwo kikun ti awọn wafers onigun nla.
- Ìbáramu Gígùn Ìgbì: A ṣe àtúnṣe fún àwọn ìgbì ìgbì tí ó gba agbára púpọ̀ ti silikoni àti àwọn semiconductors ìran kẹta (fún àpẹẹrẹ, SiC, GaN) láti mú kí lílo agbára pọ̀ sí i.
Àwọn Àǹfààní Pàtàkì Mẹ́ta Lórí Ṣíṣe Àtúnṣe Àṣà
1. Ìdènà tó dára gan-an ti ìtànkálẹ̀ dopant - Ìfarahàn ooru ni a fi opin si iwọn nanosecond-si-millisecond pẹlu ìtànkálẹ̀ dopant tó fẹ́rẹ̀ẹ́-odo, agbára tí a kò lè rí nípasẹ̀ ìfọ́nná iná mànàmáná tàbí RTP.
2. Isuna ooru kekere ati ibajẹ ẹrọ ti o kere ju - Oju wafer nikan ni o ni awọn iwọn otutu giga fun igba diẹ, ti o yorisi ko si iyipada ooru ti substrate tabi awọn ẹya ẹrọ ati ko si ibajẹ oju-ọna.
3. Pípé yíyan agbègbè ìfàmọ́ra - Àwọn àmì ìfìhàn micron tí a lè tún ṣe ń ṣe àtìlẹ́yìn fún ìfàmọ́ra agbègbè fún ìṣọ̀kan 3D àti àwọn ẹ̀rọ tí a sopọ̀ mọ́ ara wọn.
Àwọn Ìṣẹ̀lẹ̀ Ìlò
Àwọn ohun èlò tí a lò fún ìṣiṣẹ́ orísun/ìfà omi, àtúnṣe ikanni, àti ìfà omi ohmic fún ìlò ọgbọ́n tó ti lọ síwájú (GAA/CFET), DRAM/3D NAND, àwọn ẹ̀rọ agbára SiC/GaN, SOI, àti àwọn ẹ̀rọ micro/nano. Ìfà omi léésà ń mú ìdàgbàsókè bá ìgbà kan náà nínú iṣẹ́ àti iṣẹ́ ẹ̀rọ.
Ìmúdàgba ẹ̀rọ laser yí ìṣiṣẹ́ wafer padà láti ìmúdàgba ẹ̀rọ àgbáyé (àwọ̀lékè) sí ìmúdàgba ẹ̀rọ àgbékalẹ̀ ìbílẹ̀. Ìmọ̀ ẹ̀rọ opitika alágbára rẹ̀ ń ṣe àtìlẹ́yìn fún ìtẹ̀síwájú ìfúnpọ̀ àti ìṣiṣẹ́ àwọn nódù semiconductor tó ti ní ìlọsíwájú.
Ìwé Ìsọfúnni Ọjà
| Pílámẹ́rà | Ìlànà ìpele |
| Agbára | 60-20000W |
| Gígùn ìgbì | A le ṣe adani: 355/450/532/915/980/1080nm ati awọn igbona igbi miiran |
| Aperture oni-nọmba (NA) | A le ṣe àtúnṣe |
| Agbegbe Isọdọkan ti o munadoko | A le ṣe àtúnṣe |
| Gígùn Àfojúsùn | ≥500mm (tí agbègbè ìṣọ̀kan náà ní ipa lórí) |
| Itutu tutu | Itutu Omi |
| Ìwúwo | 10kg |
| Àwọn ìwọ̀n | A le ṣe àtúnṣe |
| Àwọn mìíràn | Àṣàyàn: Módùùlù ìwádìí ooru infurarẹẹdi, Módùùlù ìwádìí ìbàjẹ́ dígí ààbò |
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù Keje-23-2026

