NIR Plan Apo 50X/0.67 – Àfojúsùn Infinity Corrected Metallurgical fún Àwòrán Sílíkónì àti Ìṣàyẹ̀wò Ìlànà Fáíbà Lésà

NIR Plan Apo 50X/0.67 – Àfojúsùn Infinity Corrected Metallurgical fún Àwòrán Sílíkónì àti Ìṣàyẹ̀wò Ìlànà Fáìbà Lésà Àwòrán Àfihàn

NIR Plan Apo 50X/0.67 – Àfojúsùn Infinity Corrected Metallurgical fún Àwòrán Sílíkónì àti Ìṣàyẹ̀wò Ìlànà Fáíbà Lésà

NIR Plan Apo 50X/0.67 jẹ́ ohun èlò microscope apochromatic tí a ṣe àtúnṣe àìlópin tí a ṣe àtúnṣe rẹ̀ ní pàtó fún àwọn ohun èlò tí ó sún mọ́ infrared (NIR). Pẹ̀lú ihò nọ́mbà (NA) ti 0.67 àti ijinna iṣẹ́ (WD) ti 10 mm, ó ń fúnni ní ìpinnu tí ó tayọ (0.5 µm) àti ìgbékalẹ̀ NIR tí ó dára jùlọ rékọjá àwọn ibi tí a lè rí 380–700 nm àti pẹ̀lú ìgbì omi 1064 nm pàtàkì – èyí tí ó mú kí ó dára fún àyẹ̀wò ẹ̀yìn silicon wafer, through-silicon via (TSV) metrology, àti àbójútó àkókò gidi ti ìṣiṣẹ́ fiber laser.

Awọn alaye pataki:

Ìmúdàgbàsókè: 50X
Aperture nọ́mbà (NA): 0.67
Ijinna Iṣiṣẹ (WD): 10 mm
Gígùn ìfojúsùn: 4 mm
Ìpinnu: 0.5 µm
Ijinle aaye (±DF): 0.75 µm
Ààyè ìwò tó pọ̀ jùlọ: 0.5 mm
Ìwọ̀n: 430 g
Apẹrẹ opitika: Atunse Infinity, apẹrẹ apochromat (APO)
Ìwọ̀n ìgbì iṣẹ́: 380–700 nm & 1064 nm
Agbedemeji ìtẹ̀síwájú: Afẹ́fẹ́

Fi imeeli ranṣẹ si wa

Àlàyé Ọjà

Àwọn àmì ọjà

Awọn ohun elo deede:

Àyẹ̀wò Semiconductor– Ayẹwo wafer ẹhin, wiwọn TSV (nipasẹ-silicon nipasẹ), atunyẹwo abawọn lẹhin gige laser

Ìṣàyẹ̀wò ìkùnà- Aworan ti ko ni iparun nipasẹ awọn ohun elo silikoni lati ṣe ayẹwo awọn ẹya ti a sin

Ìṣiṣẹ́ lésà– Àkíyèsí gidi nípa ablation, lilu, tàbí alurinmorin okun 1064 nm nínú ìmọ̀-ẹ̀rọ àti iṣẹ́-ọnà ohun èlò

Ìmọ̀ nípa Ìṣẹ̀dá àti Ìmọ̀ nípa Ohun Èlò- Ayẹwo ipinnu giga ti awọn agbegbe ti o ni ipa lori ooru lesa, awọn fẹlẹfẹlẹ atunkọ, ati awọn ipilẹ kekere

Onímọ̀ nípa Fírósísínsì NIR– Fún àwọn àpẹẹrẹ ohun alààyè tàbí ohun èlò tí ó nílò ìtara infurarẹẹdi tí ó súnmọ́